超高速顏料研磨均質(zhì)機

GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比
.發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導(dǎo)致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

產(chǎn)品型號：GMD2000/4
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-09-10
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產(chǎn)品詳情

超高速顏料研磨均質(zhì)機，染料分散設(shè)備，高剪切研磨均質(zhì)機，高速研磨均質(zhì)機，超細研磨均質(zhì)機

染料傳統(tǒng)的分散設(shè)備為批次研磨均質(zhì)機，隨著工業(yè)化的發(fā)展，以及染料行業(yè)的不斷進步，批次研磨均質(zhì)機的弊端暴露無遺，一是分散的不夠均勻，二是對于染料的細化能力不足。在這個大趨勢下，上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機，SGN超高速高速研磨均質(zhì)機采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，是批次研磨均質(zhì)機的4-5倍。物料一進一出，100%得到剪切分散，生產(chǎn)出來的染料產(chǎn)品，更加細膩均勻。

GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比

發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導(dǎo)致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

型號	標準流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 Rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進口尺寸	出口尺寸
GMD2000/4	300-1，000	14，000	44	2.2	DN25	DN15
GMD2000/5	1，000-1,500	10，500	44	7.5	DN40	DN32
GMD2000/10	3，000	7，300	44	15	DN50	DN50
GMD2000/20	8，000	4，900	44	37	DN80	DN65
GMD2000/30	20，000	2，850	44	75	DN150	DN125
GMD2000/50	40，000	2，000	44	160	DN200	DN150

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GM2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布就更窄。